Triiodsilan

Triiodsilan kann durch eine zweistufige Reaktion von Trichlorsilan mit Anilin in Benzol und dem Reaktionsprodukt mit Iodwasserstoff gewonnen werden.[1]

${\displaystyle \mathrm {SiHCl_{3}+6\ C_{6}H_{5}NH_{2}\longrightarrow SiH(NHC_{6}H_{5})_{3}+3\ [C_{6}H_{5}NH_{3}]Cl} }$

${\displaystyle \mathrm {SiH(NHC_{6}H_{5})_{3}+6\ HI\longrightarrow SiHI_{3}+3\ [C_{6}H_{5}NH_{3}]I} }$

Triiodsilan kann auch durch Erhitzen von Silicium und Iodwasserstoff in Analogie zur Darstellung von Trichlorsilan bzw. Tribromsilan dargestellt werden.[1] Dieses Verfahren wurde bereits 1857 bei der ersten Synthese von Friedrich Wöhler und Heinrich Buff beschrieben.[6]

${\displaystyle \mathrm {Si+3\ HI\rightarrow SiHI_{3}+H_{2}} }$

Bei der Reaktion von Silicium mit einem Gemisch von Wasserstoff und Iodwasserstoff entstehen nur geringe Mengen an Triiodsilan, es kann jedoch durch Reaktion von Trichlorsilan mit Ammoniumiodid in Ammoniak gewonnen werden.[7]

Ebenfalls möglich ist die Darstellung durch Reaktion von Triphenylsilan mit Iodwasserstoff und Aluminiumtrichlorid als Katalysator.[8]

${\displaystyle \mathrm {SiH(C_{6}H_{5})_{3}+3\ HI\longrightarrow SiHI_{3}+3\ C_{6}H_{6}} }$

Triiodsilan ist eine farblose, hydrolyseempfindliche, stark lichtbrechende Flüssigkeit, die sich in Wasser zersetzt.[1][4]

Triiodsilan und Diiodsilan können zur Abscheidung von Siliciumschichten verwendet werden.[8][9]

1. Georg Brauer (Hrsg.), unter Mitarbeit von Marianne Baudler u. a.: Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie. 3., umgearbeitete Auflage. Band II, Ferdinand Enke, Stuttgart 1978, ISBN 3-432-87813-3, S. 688.
2. William M. Haynes: CRC Handbook of Chemistry and Physics, 93rd Edition. CRC Press, 2016, ISBN 978-1-4398-8050-0, S. 88 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
3. Griffin, Bohn and Company: The Chemical News and Journal of Industrial Science; with which is Incorporated the "Chemical Gazette." A Journal of Practical Chemistry in All Its Applications to Pharmacy, Arts and Manufactures. Chemical news office, 1868, S. 76 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
4. R. Blachnik: Taschenbuch für Chemiker und Physiker Band 3: Elemente, anorganische Verbindungen und Materialien, Minerale. Springer-Verlag, 2013, ISBN 978-3-642-58842-6, S. 730 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
5. Dieser Stoff wurde in Bezug auf seine Gefährlichkeit entweder noch nicht eingestuft oder eine verlässliche und zitierfähige Quelle hierzu wurde noch nicht gefunden.
6. H. Buff, F. Wöhler: Ueber neue Verbindungen des Siliciums. In: Annalen der Chemie und Pharmacie. Band 104, Nr. 1, 1857, S. 94–109, doi:10.1002/jlac.18571040108.
7. E. G. Rochow: The Chemistry of Silicon Pergamon International Library of Science, Technology, Engineering and Social Studies. Elsevier, 2013, ISBN 978-1-4831-8755-6, S. 1371 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
8. G. Tamizhmani, Michael Cocivera, Richard T. Oakley, Paul Del Bel Belluz: Some physical properties of undoped amorphous silicon prepared by a new CVD process using iodosilanes. In: Chemistry of Materials. 2, 1990, S. 473, doi:10.1021/cm00010a029.
9. Patentanmeldung WO1984000353A1: Ultra-pure epitaxial silicon. Angemeldet am 11. Juli 1983, veröffentlicht am 2. Februar 1984, Erfinder: John C. Schumacher.