Cobaltdisilicid

Cobaltdisilicid kann durch Reaktion von Cobalt mit Silicium gewonnen werden.[2]

${\displaystyle \mathrm {Co+2\ Si\longrightarrow CoSi_{2}} }$

Cobaltdisilicid ist ein grauer, geruchloser Feststoff, der praktisch unlöslich in Wasser ist.[1] Er besitzt eine kubische Kristallstruktur vom Fluorittyp mit der Raumgruppe Fm3m (Raumgruppen-Nr. 225)Vorlage:Raumgruppe/225.[2]

Cobaltdisilicid wird vielfältig in der chemischen Forschung eingesetzt.

In der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik wird Cobaltsilicid für die niederohmige Kontaktierung von Silicium bei der Herstellung von hochintegrierten Schaltkreisen (VLSI) in 250-nm- bis 90-nm-Technik verwendet.[1] Es löste zunächst das gängige Titandisilicid ab, wurde dann ab dem 90-nm-Technologieknoten aufgrund von physikalischen Nachteilen zunehmend durch Dinickelsilicid ersetzt (siehe Salicide-Prozess).

Neben Cobaltdisilicid sind mit dem orthorhombischen Co₂Si, dem kubischen CoSi und dem kubischen CoSi₃ mindestens drei weitere Cobaltsilicide bekannt. Zwei weitere, Co₅Si₃ und Co₃Si, sind noch nicht genau untersucht.[3]

1. Datenblatt Cobalt silicide, 99% (metals basis) bei Alfa Aesar, abgerufen am 2. November 2021 (Seite nicht mehr abrufbar).
2. Lih J. Chen, Institution of Electrical Engineers: Silicide Technology for Integrated Circuits. IET, 2004, ISBN 978-0-86341-352-0, S. 78 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
3. E. G. Rochow: The Chemistry of Silicon Pergamon International Library of Science, Technology, Engineering and Social Studies. Elsevier, 2013, ISBN 978-1-4831-8755-6, S. 1360 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).